Applications du générateur d'ozone dans la fabrication de semi-conducteurs
À mesure que les procédés semi-conducteurs progressent vers des largeurs de ligne plus petites, le contrôle de la contamination et la précision du traitement de surface sont devenus des facteurs critiques déterminant le rendement des puces. L'ozone (O₃), grâce à ses fortes propriétés oxydantes, son absence de résidus et sa contrôlabilité des procédés, joue un rôle de plus en plus important dans l'industrie des semi-conducteurs.
I. Applications clés de l'ozone dans la fabrication de semi-conducteurs
L'ozone est largement utilisé dans divers procédés semi-conducteurs, notamment le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt de couches atomiques (ALD), le nettoyage des plaquettes, le retrait de résine photosensible, le traitement de surface et la croissance d'oxyde.
1. Nettoyage des plaquettes
Les particules, les résidus organiques et les contaminants métalliques présents sur les surfaces des plaquettes sont des causes majeures de défaillance des dispositifs. L'eau ozonée élimine efficacement les contaminants de surface grâce à un mécanisme combiné d'oxydation et de chélation, empêchant les courts-circuits ou les défauts de performance causés par les résidus. Comparé au nettoyage RCA traditionnel, le nettoyage à base d'ozone est plus respectueux de l'environnement, élimine le coûteux traitement des déchets et offre des coûts d'exploitation globaux plus faibles.
2. Formation de l'oxyde de grille
Dans les dispositifs semi-conducteurs tels que les MOSFET, le dioxyde de silicium (SiO₂) sert de couche isolante centrale, et sa qualité affecte directement les performances électriques du dispositif. L'ozone permet une oxydation précise à basse température (200–400°C), produisant des couches d'oxyde uniformes et denses avec une faible densité de défauts et des constantes diélectriques stables, tout en évitant efficacement les dommages thermiques à la structure de la plaquette.
3. Retrait de la résine photosensible
Après la photolithographie, le photorésidu résiduel doit être complètement éliminé. Le décapage à l'eau ozonée atteint un taux de corrosion inférieur à 0,1 nm/min sur les interconnexions métalliques telles que le cuivre, surpassant nettement les mélanges traditionnels acide sulfurique-peroxyde.
4. Dépôt de couches minces
Dans les procédés CVD au TEOS/ozone, l'ozone agit comme oxydant dans les réactions de dépôt de couches et constitue une technologie clé pour produire des couches diélectriques de haute qualité.
II. Exigences techniques pour les systèmes de génération d'ozone de qualité semi-conducteur
La fabrication de semi-conducteurs impose des exigences extrêmement strictes auxgénérateur d'ozonesystèmes – haute concentration, haute pureté, haute précision et haute stabilité sont toutes essentielles. L'équipement doit répondre aux critères suivants :
Ultra-haute pureté: garantir qu'aucun ion métallique ou particule ne contamine les plaquettes ;
Contrôle précis de la concentration: la concentration et le débit d'ozone doivent être ajustables avec précision pour répondre aux divers besoins des procédés ;
Haute fiabilité: capable of continuous 24/7 stable operation.
Le marché de l'ozone de qualité semi-conducteur générateur d'ozone connaît une croissance rapide. Selon une étude sectorielle, la taille du marché mondial des générateurs d'ozone utilisés dans les applications semi-conductrices a atteint environ 104 millions de dollars américains en 2025 et devrait passer à 160 millions de dollars américains d'ici 2032.
III. SANKANG OZONE – Soutenir le développement de l'industrie des semi-conducteurs de haute qualité
SANKANG OZONE se consacre depuis longtemps à la technologie de génération d'ozone, avec un accent continu sur les besoins des secteurs de fabrication haut de gamme tels que les semi-conducteurs et le photovoltaïque. En tirant parti de notre expertise technique en recherche sur l'ozone, nous nous engageons à fournir aux clients des solutions de systèmes de génération d'ozone de haute pureté et de grande stabilité.
À l'avenir, Sankang Ozone continuera d'augmenter ses investissements en R&D dans les applications d'ozone de qualité semi-conducteur, contribuant ainsi à la croissance de haute qualité de l'industrie chinoise des semi-conducteurs.
